光刻胶用光引发剂突破技术瓶颈，走向市场应用新阶段

光刻胶用光引发剂成功走向市场，突破了技术难题，解决了国内光刻胶领域长期面临的“卡脖子”问题，这一进展推动了光刻胶行业的发展，提高了相关产业的技术水平和竞争力，有望对电子信息产业产生积极影响。

光刻胶用光引发剂走向市场 突破“卡脖子”难题。近日，湖北三峡实验室的重大科技成果——“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备所有权”被湖北兴福电子以4626.78万元收购，即将投入生产。这一突破将有效缓解我国芯片制造领域的“卡脖子”难题，推动光刻胶产业自主可控。

在芯片制造过程中，光刻胶如同相机的“底片”，而此次转让的成果G/I线光刻胶用光引发剂的关键技术能够决定光刻胶的感光度和分辨率。该项目负责人、博士周钢翔表示，该技术主要面向国内成熟制程、芯片制造以及面板制造行业。目前，随着新能源汽车行业的迅速发展，大量芯片需要用到G/I线光刻胶，这款产品的国产化率也相对较高。

近年来，由于进口光引发剂不时面临限购和断供，国内多家光刻胶生产企业生产受阻。在湖北，主攻芯片蚀刻电子级磷酸、电子级硫酸等产品的兴福电子公司曾想切入这一产业赛道，但由于从零研发的风险高而未敢贸然行动。于是，该公司向以微电子新材料为主要研究方向的三峡实验室提出了研发需求。

据企查查数据显示，截至1月12日，国内光刻胶相关现存企业达1040家，相关专利已达1.73万项。光刻胶用光引发剂走向市场 突破“卡脖子”难题。